當(dāng)前位置:首頁(yè) > 產(chǎn)品中心 > 恒溫浴 > 恒溫金屬浴 > HTL-200JS恒溫金屬浴
簡(jiǎn)要描述:恒溫金屬浴:控溫精度高,制樣平行性好,以代替?zhèn)鹘y(tǒng)的水浴裝置,可廣泛應(yīng)用于各種分析儀器樣品的培養(yǎng)、煮沸、去活化、濕消化、樣品濃縮和酶分析保存和反應(yīng)、DNA擴(kuò)增和電泳的預(yù)變性、血清凝固等.行業(yè)遍及醫(yī)藥、化工、食品安全、質(zhì)檢、環(huán)境等
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恒溫金屬浴 可定制
恒溫金屬浴:控溫精度高,制樣平行性好,以代替?zhèn)鹘y(tǒng)的水浴裝置,可廣泛應(yīng)用于各種分析儀器樣品的培養(yǎng)、煮沸、去活化、濕消化、樣品濃縮和酶分析保存和反應(yīng)、DNA擴(kuò)增和電泳的預(yù)變性、血清凝固等.行業(yè)遍及醫(yī)藥、化工、食品安全、質(zhì)檢、環(huán)境等
常用于分子生物學(xué)實(shí)驗(yàn),如酶切、蛋白質(zhì)變性、融化瓊脂糖、核酸擴(kuò)增檢測(cè)預(yù)反應(yīng)等,以及其它實(shí)驗(yàn)的樣本保存、血清快速析出、凝固等,無(wú)須擔(dān)心水意外進(jìn)到反應(yīng)管中而影響到實(shí)驗(yàn),又可避免了傳統(tǒng)水浴加熱污染的問(wèn)題。此外控溫更精,可控溫范圍也更大。是傳統(tǒng)水浴裝置的良好替代品
恒溫金屬浴技術(shù)參數(shù)
型號(hào) | HTL系列 |
加熱塊容量 | 恒溫金屬浴可選模塊/可定制 |
溫度控制 | 智能PID控制系統(tǒng) |
控溫范圍 | 室溫~300°C |
控溫精度 | ±0.1~0.5℃ |
溫度均勻性 | ±0.5℃ |
顯示精度 | 0.1℃ |
定時(shí)范圍 | 1~9999分鐘(小時(shí))或連續(xù)運(yùn)行 |
升溫時(shí)間 | ≤30 分鐘(30℃至160℃) |
電壓/頻率 | 220VAC±10%或110VAC±10% 50/60Hz |
尺寸 | 定制 |
凈重 | 定制 |
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